北京东方博大

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                Plasma-therm RIE / ICP幹法刻蝕設備

                儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動正好彩票网排三的历史多腔(片盒對片盒) ◆領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射正好彩票网693前后关系頻器件、VCSELs的器件等化合物產業黑龙江11选5遗漏统计及MEMS和Si基半導體產業等 ◆制程 : RIE / ICP

                Plasma-therm HDRF幹法低溫去膠去Polymer及DRIE深矽刻蝕側壁平滑設備

                儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) / 全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域 : MEMS和功率器件產業 ◆應用 : 低溫去膠 / 去側壁Polymer / 深孔側黑龙江十一选伍发图壁平滑

                Plasma-therm DRIE深矽刻蝕設備

                Plasma-Therm是致力於DRIE深矽刻蝕的排列五走势图世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”的樣片範圍,廣泛應用於MEMS等相關行業。 儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域:MEMS微機電器件 ◆制程:DRIE深矽刻蝕(Bosch 工藝)

                PECVD / ICPCVD薄膜沈積設備

                Plasma-Therm是致力於PECVD / ICPCVD(HDPCVD)的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流PECVD / ICPCVD(HDPCVD)薄膜生長工藝,廣泛應用於三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業。 儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) / 全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等 ◆制程 : PECVD / ICPCVD(HDPCVD)

                Scientech濕法設備 Wet Process Machine

                2002年,辛耘企業投入批次式濕製程設備研發製造,已經獲得國內外客戶採用與肯定。目前辛辽宁11选五开奖结果耘擁有 5,000㎡ 生產製造廠房,還擁有 Class 10 等級無塵室服務客戶製程驗證。產品包含手動 / 半自動 / 全自動的批次濕製程設備,提供客戶2”~12”製程應用需求。特有的 cassette type / boat type / cassette-less type 技術提供半導體晶圓、藍寶石、玻璃、太陽福彩3d图库天牛图库能晶圓、薄化晶圓等等..的應用。此外,專利產品Advantech Dry 提供客戶各種關鍵乾燥的製程應用。

                T-Series水平式黑龙江省快乐十分开奖公告爐管

                設備簡介: Tempress 是世界著名半導體擴散設備供應商,成立50年來已經供應超過2000套設備在半導體行業