排列三图库第二版

  • <tr id='pzWToO'><strong id='pzWToO'></strong><small id='pzWToO'></small><button id='pzWToO'></button><li id='pzWToO'><noscript id='pzWToO'><big id='pzWToO'></big><dt id='pzWToO'></dt></noscript></li></tr><ol id='pzWToO'><option id='pzWToO'><table id='pzWToO'><blockquote id='pzWToO'><tbody id='pzWToO'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='pzWToO'></u><kbd id='pzWToO'><kbd id='pzWToO'></kbd></kbd>

    <code id='pzWToO'><strong id='pzWToO'></strong></code>

    <fieldset id='pzWToO'></fieldset>
          <span id='pzWToO'></span>

              <ins id='pzWToO'></ins>
              <acronym id='pzWToO'><em id='pzWToO'></em><td id='pzWToO'><div id='pzWToO'></div></td></acronym><address id='pzWToO'><big id='pzWToO'><big id='pzWToO'></big><legend id='pzWToO'></legend></big></address>

              <i id='pzWToO'><div id='pzWToO'><ins id='pzWToO'></ins></div></i>
              <i id='pzWToO'></i>
            1. <dl id='pzWToO'></dl>
              1. <blockquote id='pzWToO'><q id='pzWToO'><noscript id='pzWToO'></noscript><dt id='pzWToO'></dt></q></blockquote><noframes id='pzWToO'><i id='pzWToO'></i>
                PECVD / ICPCVD薄膜沈積設備

                聯絡人:李安芃

                聯絡電話:+86-21 18918393270

                電子郵件:harrison.lee@scientech.com.cn

                 

                Plasma-therm PECVD / ICPCVD薄膜沈積設備
                 
                                  
                 
                 

                Plasma-Therm是致力於PECVD / ICPCVD(HDPCVD)的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流PECVD / ICPCVD(HDPCVD)薄膜生長工藝,廣泛應用於三五族(GaAs / SiC )、GaN功体彩开奖历史前后关系率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業

                儀器簡介

                ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒黑龙快乐十分开奖结果對片盒) / 全自動多腔(片盒對片盒)
                ◆領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等
                ◆制程 : PECVD / ICPCVD(HDPCVD)

                儀器特點

                ◆ Plasma-Therm公司有將龙江11选五开奖结果近40年研發及制造PECVD相關設備的歷史
                ◆ Plasma-Therm設備具有高穩定性與高可靠度
                ◆ Plasma-Therm自有的軟硬件設計及完善QC系統
                ◆ Plasma-Therm設備配置靈活,包含手動、半自動、全自動(片盒對片盒)型號滿足實驗室研發及量產客戶需求
                ◆ Plasma-Therm設備在化合物半導體行業內高占黑龙龙11选5体彩正好遗漏有率:目前世界範圍內裝機數量超過2000臺
                ◆ Plasma-Therm PECVD / ICPCVD設備技術特性:
                l 薄膜生長速率可調;
                l 獨特的應力控制方法(低損傷應力控制)
                l 啟輝功率低至8W,采用plasma發出的輝光作為斷點監控系統的光源,薄膜厚度實時監控
                l 最優的片內厚度均勻性 < 1.5%
                l 最優的批次間厚度均勻性 < 1.5%
                ◆Plasma-Therm連續15年被VLSI評為10 Best設備供應商

                應用領域

                ◆ 三五族(GaAs / SiC,GaN功率及射頻器件,InP器件等)
                ◆ MEMS微機電
                ◆ Si基半導體
                ◆ 石英基底的光通訊器件